Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Yield shear stress dependence on nanoindentation strain rate in bulk GaN crystal

  • Masaki Fujikane
  • , Toshiya Yokogawa
  • , Shijo Nagao
  • , Roman Nowak
  • Panasonic Corporation
  • Norwegian University of Science and Technology

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

28 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut429-431
Sivumäärä3
JulkaisuPhysica Status Solidi. C: Current Topics in Solid State Physics
Vuosikerta8
Numero2
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2011
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Siteeraa tätä