Wafer-Scale Atomic-Layer-Deposition of Er3+- and Yb3+- Doped Gain Materials for Integrated Photonics

Andreas C. Liapis*, Vincent Pelgrin, Peng Liu, Xiaoqi Cui, Jose M.A. Rosa, Heli Seppannen, Diao Li, Igor Reduto, Seppo Honkanen, Harri Lipsanen, Zhipei Sun

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaAbstractScientificvertaisarvioitu

1 Sitaatiot (Scopus)

Abstrakti

We demonstrate highly-doped Er3+ and Yb3 + doped gain media on SiN waveguides by plasma-enhanced atomic layer deposition, showing great potential for integrated lasers and amplifiers.

AlkuperäiskieliEnglanti
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2023
OKM-julkaisutyyppiEi sovellu
TapahtumaConference on Lasers and Electro-Optics - San Jose, Yhdysvallat
Kesto: 7 toukok. 202312 toukok. 2023

Conference

ConferenceConference on Lasers and Electro-Optics
LyhennettäCLEO
Maa/AlueYhdysvallat
KaupunkiSan Jose
Ajanjakso07/05/202312/05/2023

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Wafer-Scale Atomic-Layer-Deposition of Er3+- and Yb3+- Doped Gain Materials for Integrated Photonics'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Siteeraa tätä