| Alkuperäiskieli | Englanti |
|---|---|
| Patenttinumero | 9909211 |
| Tila | Julkaistu - 6 maalisk. 2018 |
| OKM-julkaisutyyppi | H1 Myönnetty patentti |
Siteeraa tätä
- APA
- Author
- BIBTEX
- Harvard
- Standard
- RIS
- Vancouver
Vapor deposition of LiF thin films
- Miia Mäntymäki (Keksijä)
- , Jani Hämäläinen (Keksijä)
- , Mikko Ritala (Keksijä)
- , Markku Leskelä (Keksijä)
Tutkimustuotos: Patentti › Patent