Use of ALD thin film bragg mirror stacks in tuneable visible light mems fabry-perot interferometers

Anna Rissanen*, Riikka L. Puurunen

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

10 Sitaatiot (Scopus)

Abstrakti

This paper discusses the use of ALD thin films as Bragg mirror structure materials in MEMS Fabry-Perot interferometers in the visible spectral range. Utilizing polyimide sacrificial layer in the FPI fabrication process is also presented as an alternative method to allow higher temperature (T= 300 °C) ALD FPI processing. ALD Al2O 3 and TiO 2 thin films grown at T= 110 °C are optically characterized to determine their performance in the UV - visible range (λ>200nm) and effects of the ALD temperature on the thin film stacks and the FPI process is discussed. Optically simulated 5-layer Bragg mirror stacks consisting of ALD Al2O 3 and TiO 2 for wavelengths between 420 nm and 1000 nm are presented and corresponding MEMS mirror membrane structures are fabricated at T= 110 °C and tested for their release yield properties. As a result, the applicable wavelength range of the low-temperature ALD FPI technology can be defined.

AlkuperäiskieliEnglanti
OtsikkoAdvanced Fabrication Technologies for Micro/Nano Optics and Photonics V
Vuosikerta8249
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2012
OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa
TapahtumaAdvanced Fabrication Technologies for Micro/Nano Optics and Photonics - San Francisco, Yhdysvallat
Kesto: 24 tammik. 201225 tammik. 2012
Konferenssinumero: 5

Conference

ConferenceAdvanced Fabrication Technologies for Micro/Nano Optics and Photonics
Maa/AlueYhdysvallat
KaupunkiSan Francisco
Ajanjakso24/01/201225/01/2012

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Use of ALD thin film bragg mirror stacks in tuneable visible light mems fabry-perot interferometers'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Siteeraa tätä