Tungsten silicide formation from sequentially sputtered tungsten and silicon films

J.M. Molarius, S. Franssila, G. Drozdy, J. Saarilahti

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
JulkaisuApplied Surface Science
Vuosikerta53
TilaJulkaistu - 1991
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Tutkimusalat

  • silicon films
  • sputtered tungsten
  • tungsten silicide

Siteeraa tätä