ToF-SIMS 3D Analysis of Thin Films Deposited in High Aspect Ratio Structures via Atomic Layer Deposition and Chemical Vapor Deposition

Alireza M. Kia*, Nora Haufe, Sajjad Esmaeili, Clemens Mart, Mikko Utriainen, Riikka L. Puurunen, Wenke Weinreich

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

24 Sitaatiot (Scopus)
335 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'ToF-SIMS 3D Analysis of Thin Films Deposited in High Aspect Ratio Structures via Atomic Layer Deposition and Chemical Vapor Deposition'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Chemistry

Material Science