Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

TiO2 Thin Films by Atomic Layer Deposition: a Case of Uneven Growth at Low Temperature

  • V. Sammelselg
  • , A. Rosental
  • , A. Tarre
  • , L. Niinistö
  • , K. Heiskanen
  • , K. Ilmonen
  • , L.-S. Johansson
  • , T. Uustare

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    97 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut78-86
    JulkaisuApplied Surface Science
    Vuosikerta134
    TilaJulkaistu - 1998
    OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

    Tutkimusalat

    • growth
    • oxide
    • thin film
    • titanium

    Siteeraa tätä