TiO2 Thin Films by Atomic Layer Deposition: a Case of Uneven Growth at Low Temperature

V. Sammelselg, A. Rosental, A. Tarre, L. Niinistö, K. Heiskanen, K. Ilmonen, L.-S. Johansson, T. Uustare

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    86 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut78-86
    JulkaisuApplied Surface Science
    Vuosikerta134
    TilaJulkaistu - 1998
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • growth
    • oxide
    • thin film
    • titanium

    Siteeraa tätä