Thermal Atomic Layer Etching of Aluminum Oxide (Al2O3) Using Sequential Exposures of Niobium Pentafluoride (NbF5) and Carbon Tetrachloride (CCl4): A Combined Experimental and Density Functional Theory Study of the Etch Mechanism

Varun Sharma*, Tom Blomberg, Suvi Haukka, Michael E. Givens, Marko Tuominen, Mikko Ritala*, Simon Elliott

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

11 Sitaatiot (Scopus)
600 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Thermal Atomic Layer Etching of Aluminum Oxide (Al2O3) Using Sequential Exposures of Niobium Pentafluoride (NbF5) and Carbon Tetrachloride (CCl4): A Combined Experimental and Density Functional Theory Study of the Etch Mechanism'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Material Science