Thermal and plasma enhanced atomic layer deposition of SiO2 using commercial silicon precursors

Matti Putkonen, M. Bosund, Oili M. E. Ylivaara, Riikka Puurunen, L. Kilpi, H. Ronkainen, S. Sintonen, S. Ali, H. Lipsanen, Xuwen Liu, Eero Haimi, Simo-Pekka Hannula, Timo Sajavaara, I. Buchanan, E. Karwacki, Mika Vähä-Nissi

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

65 Sitaatiot (Scopus)

Hakutulokset