Thermal and plasma enhanced atomic layer deposition of SiO2 using commercial silicon precursors

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli

Tutkijat

Organisaatiot

  • VTT Technical Research Centre of Finland
  • Beneq Oy
  • University of Jyväskylä
  • Air Products and Chemicals, Inc.

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut93-98
Sivumäärä6
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta558
TilaJulkaistu - 2 toukokuuta 2014
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • atomic layer deposition, batch deposition, conformal coating, plasma-enhanced atomic layer deposition, precursors, silicon dioxide

ID: 896258