Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

The fabrication of silicon nanostructures by focused-ion-beam implantation and TMAH wet etching

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

57 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
JulkaisuNanotechnology
Vuosikerta21
Numero14
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2010
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • FIB implantation
  • nanofabrication
  • TMAH wet etching

Siteeraa tätä