TaC as a diffusion barrier between Si and Cu

Tomi Laurila*, Kejun Zeng, Jorma K. Kivilahti, Jyrki Molarius, Iikka Suni

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    48 Sitaatiot (Scopus)

    Sormenjälki

    Sukella tutkimusaiheisiin 'TaC as a diffusion barrier between Si and Cu'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

    Chemistry

    Earth and Planetary Sciences

    Physics

    Material Science

    Pharmacology, Toxicology and Pharmaceutical Science