Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Synchrotron x-ray topographic and high-resolution diffration analysis of mask-induced strain in epitaxial laterally overgrown GaAs layers

  • R. Rantamäki
  • , T. Tuomi
  • , Z.R. Zytkiewicz
  • , J. Domagala
  • , P.J. McNally
  • , A.N. Danilewsky

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    16 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut4298-4303
    JulkaisuJournal of Applied Physics
    Vuosikerta86
    TilaJulkaistu - 1999
    OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

    Tutkimusalat

    • diffraction
    • epitasial
    • gallium arsenide
    • overgrown
    • strain
    • synchrotron
    • x-ray topography

    Siteeraa tätä