Synchrotron Topography Studies of Various Processing Steps in the Fabrication of Semiconductor Devices

P. McNally, T. Herbert, T. Tuomi, T. Koljonen, M. Karilahti

    Tutkimustuotos: TyöpaperiWorking paperProfessional

    AlkuperäiskieliEnglanti
    JulkaisupaikkaGermany
    Sivut549-550
    TilaJulkaistu - 1994
    OKM-julkaisutyyppiD4 Julkaistut kehitykset tai tutkimusraportit tai tutkimukset

    Julkaisusarja

    NimiHasylab Jahresbericht 1993
    KustantajaHasylab

    Tutkimusalat

    • synchrotron x-ray topography, semiconductor devices

    Siteeraa tätä