Synchrotron topographic studies of various processing steps in the fabrication of semiconductor devices

P. McNally, T. Herbert, T. Tuomi, T. Koljonen, M. Karilahti

    Tutkimustuotos: TyöpaperiWorking paperProfessional

    AlkuperäiskieliEnglanti
    JulkaisupaikkaEspoo
    Sivut48-49
    TilaJulkaistu - 1994
    OKM-julkaisutyyppiD4 Julkaistut kehitykset tai tutkimusraportit tai tutkimukset

    Julkaisusarja

    NimiOptoelectronics Laboratory, Annual Report 1993
    KustantajaTKK
    NumeroTKK-F-C160

    Tutkimusalat

    • synchrotron x-ray topography, semiconductor devices

    Siteeraa tätä