Surface Passivation Properties of HfO2 Thin Film on n-Type Crystalline Si

Xuemei Cheng, Paivikki Repo, Halvard Haug, Alexander Pyymaki Perros, Erik Stensrud Marstein, Marisa Di Sabatino, Hele Savin

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

38 Sitaatiot (Scopus)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Surface Passivation Properties of HfO2 Thin Film on n-Type Crystalline Si'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Material Science

Engineering

Chemistry