Simulation of Conformality of ALD Growth Inside Lateral Channels: Comparison Between a Diffusion-Reaction Model and a Ballistic Model

Jorge A. Velasco, Jänis Järvilehto*, Jihong Yim, Christine Gonsalves, Emma Verkama, Riikka L. Puurunen

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaPosterScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
TilaJulkaistu - 2022
OKM-julkaisutyyppiEi sovellu
TapahtumaInternational Conference on Atomic Layer Deposition - International Convention Center (ICC), Ghent, Belgia
Kesto: 26 kesäk. 202229 kesäk. 2022
Konferenssinumero: 22

Conference

ConferenceInternational Conference on Atomic Layer Deposition
LyhennettäALD
Maa/AlueBelgia
KaupunkiGhent
Ajanjakso26/06/202229/06/2022

Siteeraa tätä