Simulated conformality of atomic layer deposition in lateral channels: the impact of the Knudsen number on the saturation profile characteristics

Christine Gonsalves*, Jorge A. Velasco, Jihong Yim, Jänis Järvilehto, Ville Vuorinen, Riikka L. Puurunen*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

1 Sitaatiot (Scopus)
8 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Simulated conformality of atomic layer deposition in lateral channels: the impact of the Knudsen number on the saturation profile characteristics'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Engineering