Silicon nanostructure fabrication by direct FIB writing and TMAH wet chemical etching

Päivi Sievilä; Nikolai Chekurov; Ilkka Tittonen

Silicon nanostructure fabrication by direct FIB writing and TMAH wet chemical etching

Päivi Sievilä
, Nikolai Chekurov
, Ilkka Tittonen

Ilkka Tittonen Group

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	Englanti
Otsikko	Nanotech&Expo, Anaheim, CA, USA 21-24 June
Kustantaja	CreateSpace
Sivut	214-217
ISBN (painettu)	978-1-4398-3402-2
Tila	Julkaistu - 2010
OKM-julkaisutyyppi	A4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

YK:n kestävän kehityksen tavoitteet

Tämä tuotos edistää seuraavia kestävän kehityksen tavoitteita:

SDG 9 – Teollisuus, innovaatiot ja infrastruktuuri

Tutkimusalat

FIB implantation
nanofanrication
silicon
TMAH
wet chemical etching

Siteeraa tätä

@inproceedings{4422ebd1963e4676bffef8af468cb5e0,

title = "Silicon nanostructure fabrication by direct FIB writing and TMAH wet chemical etching",

keywords = "FIB implantation, nanofanrication, silicon, TMAH, wet chemical etching, FIB implantation, nanofanrication, silicon, TMAH, wet chemical etching, FIB implantation, nanofanrication, silicon, TMAH, wet chemical etching",

author = "P{\"a}ivi Sievil{\"a} and Nikolai Chekurov and Ilkka Tittonen",

year = "2010",

language = "English",

isbn = "978-1-4398-3402-2",

pages = "214--217",

booktitle = "Nanotech\&Expo, Anaheim, CA, USA 21-24 June",

publisher = "CreateSpace",

address = "United States",

}

TY - GEN

T1 - Silicon nanostructure fabrication by direct FIB writing and TMAH wet chemical etching

AU - Sievilä, Päivi

AU - Chekurov, Nikolai

AU - Tittonen, Ilkka

PY - 2010

Y1 - 2010

KW - FIB implantation

KW - nanofanrication

KW - silicon

KW - TMAH

KW - wet chemical etching

KW - FIB implantation

KW - nanofanrication

KW - silicon

KW - TMAH

KW - wet chemical etching

KW - FIB implantation

KW - nanofanrication

KW - silicon

KW - TMAH

KW - wet chemical etching

M3 - Conference article in proceedings

SN - 978-1-4398-3402-2

SP - 214

EP - 217

BT - Nanotech&Expo, Anaheim, CA, USA 21-24 June

PB - CreateSpace

ER -