Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Silicon Nanopillars Formed by Reactive Ion Etching Using Self-Organized Gold Mask

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

6 Viittaukset (Web of Science)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut263-265
JulkaisuPhysica Scripta
VuosikertaT79
TilaJulkaistu - 1999
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • Gold Mask
  • Nanopillars
  • RIE
  • Silicon

Siteeraa tätä