Saturation profile based conformality analysis for atomic layer deposition: aluminum oxide in lateral high-aspect-ratio channels

Jihong Yim, Oili M.E. Ylivaara, Markku Ylilammi, Virpi Korpelainen, Eero Haimi, Emma Verkama, Mikko Utriainen, Riikka L. Puurunen*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

23 Sitaatiot (Scopus)
135 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Saturation profile based conformality analysis for atomic layer deposition: aluminum oxide in lateral high-aspect-ratio channels'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Engineering

Chemistry

Material Science

Medicine and Dentistry

Biochemistry, Genetics and Molecular Biology