Saturation profile based conformality analysis for atomic layer deposition: aluminum oxide in lateral high-aspect-ratio channels

Jihong Yim
, Oili M.E. Ylivaara
, Markku Ylilammi
, Virpi Korpelainen
, Eero Haimi
, Emma Verkama
, Mikko Utriainen
, Riikka L. Puurunen^*

^*Tämän työn vastaava kirjoittaja

VTT Technical Research Centre of Finland Ltd.

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

40 Sitaatiot (Scopus)

185 Lataukset (Pure)

2 tulosta
- Nimi(laskeva)

OtaNano
Rissanen, A. (Manager)
Aalto-yliopisto
Laitteistot/tilat: Facility
Raaka-aineiden tutkimusinfrastruktuuri
Karppinen, M. (Manager)
Kemian tekniikan korkeakoulu
Laitteistot/tilat: Facility