Saturation profile based conformality analysis for atomic layer deposition: aluminum oxide in lateral high-aspect-ratio channels

Jihong Yim, Oili M.E. Ylivaara, Markku Ylilammi, Virpi Korpelainen, Eero Haimi, Emma Verkama, Mikko Utriainen, Riikka L. Puurunen^*

^*Tämän työn vastaava kirjoittaja

VTT Technical Research Centre of Finland Ltd.

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

15 Sitaatiot (Scopus)

83 Lataukset (Pure)

2 tulosta
- Nimi
- Aloituspäivä(nouseva)

ALD Al2O3 thickness profile in microscopic rectangular channel, TMA-water 300 degC 500 cycles, PillarHall(TM) LHAR3-1b, V0001
Ylivaara, O. (Creator), Puurunen, R. (Creator) & Marles, J. (Creator), 31 toukok. 2021
DOI - pysyväislinkki: 10.5281/zenodo.3974438, https://zenodo.org/record/3974438
Tietoaineisto: Dataset
DReaM-ALD – Diffusion-Reaction Model for Atomic Layer Deposition
Verkama, E. (Creator) & Puurunen, R. (Creator), 2023
DOI - pysyväislinkki: 10.5281/zenodo.7759194, https://zenodo.org/record/7759195
Tietoaineisto: Ohjelmisto tai koodi