Properties of atomic-layer-deposited ultra-thin AlN films on GaAs surfaces

Päivi Mattila, Markus Bosund, Henri Jussila, Abuduwayiti Aierken, Juha Riikonen, Teppo Huhtio, Harri Lipsanen, Markku Sopanen

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

3 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut570-574
Sivumäärä5
JulkaisuApplied Surface Science
Vuosikerta314
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 30 syyskuuta 2014
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Laitteet

OtaNano

Anna Rissanen (Manager)

Aalto-yliopisto

Laitteistot/tilat: Facility

  • Siteeraa tätä