(poster) Reduction of defect density at Ge/Al2O3 interface using GeO2 interfacial layers

Joonas Isometsä*, John Fung, Toni Pasanen, Hanchen Liu, Oskari Leiviskä, Marko Yli-Koski, Ville Vähänissi, Hele Savin

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

Suodatin
Aktiivinen

Hakutulokset