(poster) Modification of chemical oxide passivation of silicon by ultrahigh-vacuum low-temperature treatments

Zahra Jahanshah Rad; Kexun Chen; Juha Pekka Lehtiö; Iris Mack; Esa Vuorinen; Ville Vähänissi; Mikhail Kuzmin; M.P.J. Punkkinen; Pekka Laukkanen; Hele Savin; Kalevi Kokko

(poster) Modification of chemical oxide passivation of silicon by ultrahigh-vacuum low-temperature treatments

Zahra Jahanshah Rad^*, Kexun Chen, Juha Pekka Lehtiö, Iris Mack, Esa Vuorinen, Ville Vähänissi, Mikhail Kuzmin, M.P.J. Punkkinen, Pekka Laukkanen, Hele Savin, Kalevi Kokko

^*Tämän työn vastaava kirjoittaja

University of Turku

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	Englanti
Tila	Julkaistu - 17 jouluk. 2020
OKM-julkaisutyyppi	Ei sovellu
Tapahtuma	IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference - Virtual, Online, Virtual, Online, Yhdysvallat Kesto: 16 jouluk. 2020 → 18 jouluk. 2020 Konferenssinumero: 51 https://www.ieeesisc.org/

Conference

Conference	IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference
Lyhennettä	IEEE SISC
Maa/Alue	Yhdysvallat
Kaupunki	Virtual, Online
Ajanjakso	16/12/2020 → 18/12/2020
www-osoite	https://www.ieeesisc.org/

OtaNano
Rissanen, A. (Manager)
Aalto-yliopisto
Laitteistot/tilat: Facility
OtaNano Nanofab
Repo, P. (Manager) & Rissanen, A. (Other)
OtaNano
Laitteistot/tilat: Facility

Siteeraa tätä

Rad, Z. J., Chen, K., Lehtiö, J. P., Mack, I., Vuorinen, E., Vähänissi, V., Kuzmin, M., Punkkinen, M. P. J., Laukkanen, P., Savin, H., & Kokko, K. (2020). (poster) Modification of chemical oxide passivation of silicon by ultrahigh-vacuum low-temperature treatments. Abstraktin lähde: IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference, Virtual, Online, Yhdysvallat.

@conference{bb45efcaf4c7456993171904acc5d696,

title = "(poster) Modification of chemical oxide passivation of silicon by ultrahigh-vacuum low-temperature treatments",

author = "Rad, \{Zahra Jahanshah\} and Kexun Chen and Lehti{\"o}, \{Juha Pekka\} and Iris Mack and Esa Vuorinen and Ville V{\"a}h{\"a}nissi and Mikhail Kuzmin and M.P.J. Punkkinen and Pekka Laukkanen and Hele Savin and Kalevi Kokko",

year = "2020",

month = dec,

day = "17",

language = "English",

note = "IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference, IEEE SISC ; Conference date: 16-12-2020 Through 18-12-2020",

url = "https://www.ieeesisc.org/",

}

(poster) Modification of chemical oxide passivation of silicon by ultrahigh-vacuum low-temperature treatments. / Rad, Zahra Jahanshah; Chen, Kexun; Lehtiö, Juha Pekka et al.
2020. Abstraktin lähde: IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference, Virtual, Online, Yhdysvallat.

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

TY - CONF

T1 - (poster) Modification of chemical oxide passivation of silicon by ultrahigh-vacuum low-temperature treatments

AU - Rad, Zahra Jahanshah

AU - Chen, Kexun

AU - Lehtiö, Juha Pekka

AU - Mack, Iris

AU - Vuorinen, Esa

AU - Vähänissi, Ville

AU - Kuzmin, Mikhail

AU - Punkkinen, M.P.J.

AU - Laukkanen, Pekka

AU - Savin, Hele

AU - Kokko, Kalevi

N1 - Conference code: 51

PY - 2020/12/17

Y1 - 2020/12/17

M3 - Abstract

T2 - IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference

Y2 - 16 December 2020 through 18 December 2020

ER -

(poster) Modification of chemical oxide passivation of silicon by ultrahigh-vacuum low-temperature treatments

Conference

Laitteet

OtaNano

OtaNano Nanofab

Siteeraa tätä