(poster) Mixed Aluminum Precursor in the Atomic Layer Deposited Al2O3 for Effective Silicon Emitter Passivation

Yameng Bao, Haibing Huang, Jun Lv, Hele Savin

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	Englanti
Tila	Julkaistu - 2016
OKM-julkaisutyyppi	Ei sovellu
Tapahtuma	IEEE Photovoltaic Specialists Conference - Portland, Yhdysvallat Kesto: 5 kesäk. 2016 → 10 kesäk. 2016 Konferenssinumero: 43

Conference	IEEE Photovoltaic Specialists Conference
Lyhennettä	PVSC
Maa/Alue	Yhdysvallat
Kaupunki	Portland
Ajanjakso	05/06/2016 → 10/06/2016

Siteeraa tätä

@conference{2001f818e8d84e898ca94e4630db1ff2,

title = "(poster) Mixed Aluminum Precursor in the Atomic Layer Deposited Al2O3 for Effective Silicon Emitter Passivation",

author = "Yameng Bao and Haibing Huang and Jun Lv and Hele Savin",

year = "2016",

language = "English",

note = "IEEE Photovoltaic Specialists Conference, PVSC ; Conference date: 05-06-2016 Through 10-06-2016",

}