(poster) A novel atomic layer deposited Al2O3 process for c-Si surface passivation and moisture barrier

Shuo Li, Yameng Bao, Guillaume von Gastrow, Mikko Laitinen, Timo Sajavaara, Hele Savin

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	Englanti
Tila	Julkaistu - 2014
OKM-julkaisutyyppi	Ei sovellu
Tapahtuma	International Conference on Atomic Layer Deposition - Kyoto, Japani Kesto: 15 kesäk. 2014 → 18 kesäk. 2014 Konferenssinumero: 14

Conference	International Conference on Atomic Layer Deposition
Maa/Alue	Japani
Kaupunki	Kyoto
Ajanjakso	15/06/2014 → 18/06/2014

Siteeraa tätä

@conference{d60e5bb0af5344949c98e5316634c3ff,

title = "(poster) A novel atomic layer deposited Al2O3 process for c-Si surface passivation and moisture barrier",

author = "Shuo Li and Yameng Bao and {von Gastrow}, Guillaume and Mikko Laitinen and Timo Sajavaara and Hele Savin",

year = "2014",

language = "English",

note = "International Conference on Atomic Layer Deposition ; Conference date: 15-06-2014 Through 18-06-2014",

}

TY - CONF

T1 - (poster) A novel atomic layer deposited Al2O3 process for c-Si surface passivation and moisture barrier

AU - Li, Shuo

AU - Bao, Yameng

AU - von Gastrow, Guillaume

AU - Laitinen, Mikko

AU - Sajavaara, Timo

AU - Savin, Hele

N1 - Conference code: 14

PY - 2014

Y1 - 2014

M3 - Abstract

T2 - International Conference on Atomic Layer Deposition

Y2 - 15 June 2014 through 18 June 2014

ER -