Pattering of as-deposited, random SWNT network for FET channel application by optical lithography

T. Kulmala, K. Grigoras, M.Y Zavodchikova, A.G Nasibulin, E.I Kauppinen, V. Ermolov, S. Franssila

Tutkimustuotos: Työpaperi › Working paper › Professional

Alkuperäiskieli	Englanti
Tila	Julkaistu - 2008
OKM-julkaisutyyppi	D4 Julkaistu kehittämis- tai tutkimusraportti taikka -selvitys

Nimi	Nanotubes, Montpellier, France 2008

Siteeraa tätä

@techreport{899569893258411b9ba4ff6b386ce74c,

title = "Pattering of as-deposited, random SWNT network for FET channel application by optical lithography",

author = "T. Kulmala and K. Grigoras and M.Y Zavodchikova and A.G Nasibulin and E.I Kauppinen and V. Ermolov and S. Franssila",

year = "2008",

language = "English",

series = "Nanotubes, Montpellier, France 2008",

type = "WorkingPaper",

}

TY - UNPB

T1 - Pattering of as-deposited, random SWNT network for FET channel application by optical lithography

AU - Kulmala, T.

AU - Grigoras, K.

AU - Zavodchikova, M.Y

AU - Nasibulin, A.G

AU - Kauppinen, E.I

AU - Ermolov, V.

AU - Franssila, S.

PY - 2008

Y1 - 2008

M3 - Working paper

T3 - Nanotubes, Montpellier, France 2008

BT - Pattering of as-deposited, random SWNT network for FET channel application by optical lithography

ER -