Passivation of black silicon boron emitters with atomic layer deposited aluminum oxide

Päivikki Repo, Jan Benick, Guillaume von Gastrow, Ville Vähänissi, Friedemann D. Heinz, Jonas Schön, Martin C. Schubert, Hele Savin

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

23 Sitaatiot (Scopus)
35 Lataukset (Pure)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut950-954
JulkaisuPhysica Status Solidi - Rapid Research Letters
Vuosikerta7
Numero11
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2013
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Tutkimusalat

  • Al2O3
  • black silicon
  • boron diffusion
  • surface passivation

Siteeraa tätä