Ozone-Based Atomic Layer Deposition of Al2O3 from Dimethylaluminum Chloride and Its Impact on Silicon Surface Passivation

Yameng Bao*, Mikko Laitinen, Timo Sajavaara, Hele Savin

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

17 Sitaatiot (Scopus)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Ozone-Based Atomic Layer Deposition of Al2O3 from Dimethylaluminum Chloride and Its Impact on Silicon Surface Passivation'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Material Science

Engineering