Oxygen Recombination Probability Data for Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of SiO2and TiO2

Karsten Arts, Sanne Deijkers, Riikka L. Puurunen, Wilhelmus M.M. Kessels*, Harm C.M. Knoops*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

15 Sitaatiot (Scopus)
180 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Oxygen Recombination Probability Data for Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of SiO2and TiO2'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Chemistry

Engineering

Material Science