Organic-Inorganic Thin Films from TiCl4 and 4-Aminophenol Precursors: A Model Case of ALD/MLD Hybrid-Material Growth?

Pia Sundberg, Maarit Karppinen*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliEditorialScientific

    Abstrakti

    Invited for the cover of this issue are Pia Sundberg and Maarit Karppinen from the Aalto University, Finland. The cover image shows the deposition cycle of a (Ti-O-C6H4-N=)(n)-type thin film grown by a combined atomic and molecular layer deposition (ALD/MLD) technique with TiCl4 and 4-aminophenol as precursors.

    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut950-950
    Sivumäärä1
    JulkaisuEuropean Journal of Inorganic Chemistry
    Vuosikerta2014
    Numero6
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - helmikuuta 2014
    OKM-julkaisutyyppiB1 Artikkeli tiedelehdessä

    Sormenjälki

    Sukella tutkimusaiheisiin 'Organic-Inorganic Thin Films from TiCl4 and 4-Aminophenol Precursors: A Model Case of ALD/MLD Hybrid-Material Growth?'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

    Siteeraa tätä