(oral talk) Low Temperature Plasma-enhanced ALD for SiO2 Using CO2

Zhen Zhu*, Perttu Sippola, Chiara Modanese, Oili Ylivaara, Saoussen Merdes, Kenichiro Mizohata, Emma Salmi, Marisa Di Sabatino, Hele Savin

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaAbstractScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
TilaJulkaistu - 2019
OKM-julkaisutyyppiEi sovellu
TapahtumaInternational Conference on ALD Applications & China ALD Conference - Shenzhen, Kiina
Kesto: 14 lokak. 201817 lokak. 2018
Konferenssinumero: 4

Conference

ConferenceInternational Conference on ALD Applications & China ALD Conference
Maa/AlueKiina
KaupunkiShenzhen
Ajanjakso14/10/201817/10/2018

Siteeraa tätä