(oral talk) Improved silicon surface passivation with atomic layer deposited Al2O3 for photovoltaic applications

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	Englanti
Tila	Julkaistu - 2013
OKM-julkaisutyyppi	Ei oikeutettu
Tapahtuma	Nordic Semiconductor Meeting - Dipoli, Espoo, Suomi Kesto: 9 kesäk. 2013 → 12 kesäk. 2013 Konferenssinumero: 25

Conference	Nordic Semiconductor Meeting
Lyhennettä	NSM
Maa/Alue	Suomi
Kaupunki	Espoo
Ajanjakso	09/06/2013 → 12/06/2013

YK:n kestävän kehityksen tavoitteet

Tämä tuotos edistää seuraavia kestävän kehityksen tavoitteita:

@conference{e590bd771d934bf28aa7626ee184e8d3,

title = "(oral talk) Improved silicon surface passivation with atomic layer deposited Al2O3 for photovoltaic applications",

author = "{von Gastrow}, Guillaume and Shuo Li and Yameng Bao and P{\"a}ivikki Repo and Hele Savin",

year = "2013",

language = "English",

note = "Nordic Semiconductor Meeting, NSM ; Conference date: 09-06-2013 Through 12-06-2013",

}