Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

(oral talk) Gettering of iron in silicon by boron implantation

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaAbstractScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
TilaJulkaistu - 2007
OKM-julkaisutyyppiEi sovellu
TapahtumaInternational Conference on Defects Recognition, Imaging and Physics of Semiconductors - Berlin, Saksa
Kesto: 3 syysk. 20077 syysk. 2007
Konferenssinumero: 11

Conference

ConferenceInternational Conference on Defects Recognition, Imaging and Physics of Semiconductors
LyhennettäDRIP
Maa/AlueSaksa
KaupunkiBerlin
Ajanjakso03/09/200707/09/2007

Tutkimusalat

  • boron
  • gettering
  • iron
  • silicon

Siteeraa tätä