Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

(oral talk) Fast-diffusing interstitial copper, iron and nickel in silicon

  • Jeanette Lindroos
  • , David P. Fenning
  • , Daniel J. Backlund
  • , Yacine Boulfrad
  • , Tonio Buonassisi
  • , Stefan K. Estreicher
  • , Hele Savin

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaAbstractScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
TilaJulkaistu - 2013
OKM-julkaisutyyppiEi sovellu
TapahtumaNordic Semiconductor Meeting - Espoo, Suomi
Kesto: 9 kesäk. 201312 kesäk. 2013
Konferenssinumero: 25

Conference

ConferenceNordic Semiconductor Meeting
Maa/AlueSuomi
KaupunkiEspoo
Ajanjakso09/06/201312/06/2013

Siteeraa tätä