(oral talk) Efficient surface passivation of black silicon using spatial atomic layer deposition

Ismo Heikkinen, Päivikki Repo, Ville Vähänissi, Toni Pasanen, Ville Malinen, Hele Savin

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaAbstractScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
TilaJulkaistu - 2017
OKM-julkaisutyyppiEi oikeutettu
TapahtumaInternational Conference on Atomic Layer Deposition - Denver, Colorado, Yhdysvallat
Kesto: 15 heinäk. 201718 heinäk. 2017
Konferenssinumero: 17

Conference

ConferenceInternational Conference on Atomic Layer Deposition
LyhennettäALD 2017
Maa/AlueYhdysvallat
KaupunkiDenver, Colorado
Ajanjakso15/07/201718/07/2017

Siteeraa tätä