(oral talk) Efficient surface passivation of black silicon using spatial atomic layer deposition

Ismo Heikkinen, Päivikki Repo, Ville Vähänissi, Toni Pasanen, Ville Malinen, Hele Savin

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	Englanti
Tila	Julkaistu - 2017
OKM-julkaisutyyppi	Ei sovellu
Tapahtuma	International Conference on Atomic Layer Deposition - Denver, Colorado, Yhdysvallat Kesto: 15 heinäk. 2017 → 18 heinäk. 2017 Konferenssinumero: 17

Conference	International Conference on Atomic Layer Deposition
Lyhennettä	ALD 2017
Maa/Alue	Yhdysvallat
Kaupunki	Denver, Colorado
Ajanjakso	15/07/2017 → 18/07/2017

YK:n kestävän kehityksen tavoitteet

Tämä tuotos edistää seuraavia kestävän kehityksen tavoitteita:

@conference{550609a33f894b5a9c95c30e9af78b08,

title = "(oral talk) Efficient surface passivation of black silicon using spatial atomic layer deposition",

keywords = "spatial atomic layer deposition, nanostructured silicon, high surface area, surface passivation, conformal coating, aluminum oxide",

author = "Ismo Heikkinen and P{\"a}ivikki Repo and Ville V{\"a}h{\"a}nissi and Toni Pasanen and Ville Malinen and Hele Savin",

year = "2017",

language = "English",

note = "International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2017 ; Conference date: 15-07-2017 Through 18-07-2017",

}

(oral talk) Efficient surface passivation of black silicon using spatial atomic layer deposition. / Heikkinen, Ismo; Repo, Päivikki ; Vähänissi, Ville et al.
2017. Abstraktin lähde: International Conference on Atomic Layer Deposition, Denver, Colorado, Yhdysvallat.

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

TY - CONF

T1 - (oral talk) Efficient surface passivation of black silicon using spatial atomic layer deposition

AU - Heikkinen, Ismo

AU - Repo, Päivikki

AU - Vähänissi, Ville

AU - Pasanen, Toni

AU - Malinen, Ville

AU - Savin, Hele

N1 - Conference code: 17

PY - 2017

Y1 - 2017

KW - spatial atomic layer deposition

KW - nanostructured silicon

KW - high surface area

KW - surface passivation

KW - conformal coating

KW - aluminum oxide

M3 - Abstract

T2 - International Conference on Atomic Layer Deposition

Y2 - 15 July 2017 through 18 July 2017

ER -