Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

(oral talk) Detection of iron contamination in internally gettered p-type silicon wafers by lifetime measurements

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaAbstractScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
TilaJulkaistu - 2004
OKM-julkaisutyyppiEi sovellu
TapahtumaElectrochemical Society Meeting - Honolulu, Yhdysvallat
Kesto: 3 lokak. 20048 lokak. 2004
Konferenssinumero: 206

Conference

ConferenceElectrochemical Society Meeting
LyhennettäECS
Maa/AlueYhdysvallat
KaupunkiHonolulu
Ajanjakso03/10/200408/10/2004

Tutkimusalat

  • diffusion length
  • internal gettering
  • iron
  • lifetime
  • silicon

Siteeraa tätä