Optical Interference Lithography Using Azobenzene-Functionalized Polymers for Micro- and Nanopatterning of Silicon

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

Organisaatiot

  • Tokyo Institute of Technology

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut4174-4177
Sivumäärä4
JulkaisuAdvanced Materials
Vuosikerta23
Numero36
TilaJulkaistu - 22 syyskuuta 2011
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • azobenzene, lithography, nanopatterning, surface-relief grating

ID: 711418