On the reliability of nanoindentation hardness of Al2O3 films grown on Si-wafer by atomic layer deposition

Xuwen Liu; Eero Haimi; Simo-Pekka Hannula; Oili M. E. Ylivaara; Riikka L. Puurunen

doi:10.1116/1.4842655

On the reliability of nanoindentation hardness of Al2O3 films grown on Si-wafer by atomic layer deposition

Xuwen Liu, Eero Haimi, Simo-Pekka Hannula, Oili M. E. Ylivaara, Riikka L. Puurunen

VTT Technical Research Centre of Finland Ltd.

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

11 Sitaatiot (Scopus)

298 Lataukset (Pure)

Alkuperäiskieli	Englanti
Artikkeli	01A116
Sivut	1-6
Sivumäärä	6
Julkaisu	JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A
Vuosikerta	32
Numero	1
DOI - pysyväislinkit	https://doi.org/10.1116/1.4842655
Tila	Julkaistu - 2014
OKM-julkaisutyyppi	A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Pääsy asiakirjaan

10.1116/1.4842655

1.4842655Final published version, 657 KB

Muut tiedostot ja linkit

http://dx.doi.org/10.1116/1.4842655

OtaNano
Rissanen, A. (Manager)
Aalto-yliopisto
Laitteistot/tilat: Facility
Raaka-aineiden tutkimusinfrastruktuuri
Karppinen, M. (Manager)
Kemian tekniikan korkeakoulu
Laitteistot/tilat: Facility

Siteeraa tätä

@article{9817d64cd42d4121995cfd6e0d617d8e,

title = "On the reliability of nanoindentation hardness of Al2O3 films grown on Si-wafer by atomic layer deposition",

author = "Xuwen Liu and Eero Haimi and Simo-Pekka Hannula and Ylivaara, {Oili M. E.} and Puurunen, {Riikka L.}",

year = "2014",

doi = "10.1116/1.4842655",

language = "English",

volume = "32",

pages = "1--6",

journal = "JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A",

issn = "0734-2101",

publisher = "American Institute of Physics",

number = "1",

}

TY - JOUR

T1 - On the reliability of nanoindentation hardness of Al2O3 films grown on Si-wafer by atomic layer deposition

AU - Liu, Xuwen

AU - Haimi, Eero

AU - Hannula, Simo-Pekka

AU - Ylivaara, Oili M. E.

AU - Puurunen, Riikka L.

PY - 2014

Y1 - 2014

UR - http://dx.doi.org/10.1116/1.4842655

U2 - 10.1116/1.4842655

DO - 10.1116/1.4842655

M3 - Article

SN - 0734-2101

VL - 32

SP - 1

EP - 6

JO - JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A

JF - JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A

IS - 1

M1 - 01A116

ER -

On the reliability of nanoindentation hardness of Al2O3 films grown on Si-wafer by atomic layer deposition

Pääsy asiakirjaan

Muut tiedostot ja linkit

Laitteet

OtaNano

Raaka-aineiden tutkimusinfrastruktuuri

Siteeraa tätä