Nanoporous Metal-Organic Framework Thin Films Prepared Directly from Gaseous Precursors by Atomic and Molecular Layer Deposition: Implications for Microelectronics

Jenna Multia, Dmitry E. Kravchenko, Víctor Rubio-Giménez, Anish Philip, Rob Ameloot*, Maarit Karppinen*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

1 Sitaatiot (Scopus)
9 Lataukset (Pure)

Abstrakti

Atomic/molecular layer deposition (ALD/MLD) allows for the direct gas-phase synthesis of crystalline metal-organic framework (MOF) thin films. Here, we show for the first time using krypton and methanol physisorption measurements that ALD/MLD-fabricated copper 1,4-benzenedicarboxylate (Cu-BDC) ultrathin films possess accessible porosity matching that of the corresponding bulk MOF.

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut827-831
Sivumäärä5
JulkaisuACS Applied Nano Materials
Vuosikerta6
Numero2
Varhainen verkossa julkaisun päivämäärä10 tammik. 2023
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 27 tammik. 2023
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Nanoporous Metal-Organic Framework Thin Films Prepared Directly from Gaseous Precursors by Atomic and Molecular Layer Deposition: Implications for Microelectronics'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.
  • FlagShip PREIN

    Mäkelä, K.

    01/01/201931/12/2022

    Projekti: Academy of Finland: Other research funding

  • HYCOAT (MSCA- ITN)

    Karppinen, M., Ghiyasi, R., Revitzer, H. & Lepikko, S.

    01/01/201830/06/2022

    Projekti: EU: MC

Siteeraa tätä