Modelling ion implantation ranges with ab initio electronic stopping power

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaChapterScientificvertaisarvioitu

Abstrakti

We present the results of combining high-fidelity quantum mechanical simulations of ion-electron interactions, using real-time time-dependent density functional theory (rt-TDDFT), with larger scale atomistic simulations. The larger scale simulations employ a molecular dynamics-based method for efficiently simulating ion ranges. The combination of these methods offers a way to directly compare rt-TDDFT predictions to experimentally measureable quantities in the form of ion ranges and implantation profiles.
AlkuperäiskieliEnglanti
OtsikkoTools for investigating electronic excitation
Alaotsikkoexperiment and multi-scale modelling
KustantajaUniversidad Politécnica de Madrid
Luku17
Sivut401-412
ISBN (elektroninen)978-84-09-36032-1
TilaJulkaistu - 2021
OKM-julkaisutyyppiA3 Kirjan tai muun kokoomateoksen osa

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Modelling ion implantation ranges with ab initio electronic stopping power'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Siteeraa tätä