Mixed Aluminum Precursor in the Atomic Layer Deposited Al2O3 for Effective Silicon Emitter Passivation

Yameng Bao, Haibing Huang, Jun Lv, Hele Savin

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference article in proceedingsScientificvertaisarvioitu

1 Sitaatiot (Scopus)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Mixed Aluminum Precursor in the Atomic Layer Deposited Al2O3 for Effective Silicon Emitter Passivation'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Engineering

Material Science