Microstructural and electrical properties of gadolinium doped ceria thin films prepared by atomic layer deposition (ALD)

E. Gourba, A Ringuedé, M. Cassir, J. Päiväsaari, J. Niinistö, M. Putkonen, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: TyöpaperiWorking paperProfessional

    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut267-274
    TilaJulkaistu - 2003
    OKM-julkaisutyyppiD4 Julkaistu kehittämis- tai tutkimusraportti taikka -selvitys

    Julkaisusarja

    Nimi5th International Conference on f-elements ICFE'5, Geneva, Switzerland, August 24-29, 2003

    Tutkimusalat

    • atomic layer deposition
    • electrolyte for SOFC
    • gadolinium doped ceria
    • solid oxide fuel cells

    Siteeraa tätä