Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Method for decreasing an excess carrier induced degradation in a silicon substrate

Tutkimustuotos: PatenttiPatent

AlkuperäiskieliEnglanti
PatenttinumeroUS9306097
Prioriteetti päiväys05/04/2016
Arkistointipäivä01/10/2012
TilaJulkaistu - 5 huhtik. 2016
OKM-julkaisutyyppiH1 Myönnetty patentti

Siteeraa tätä