Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Method and apparatus

  • Samiul Haque (Keksijä)
  • , Reijo K. Lehtiniemi (Keksijä)
  • , Asta M. Kärkkäinen (Keksijä)
  • , Lorenz Lechner (Keksijä)
  • , Pertti Hakonen (Keksijä)
    • Nokia Corporation

    Tutkimustuotos: Patentti › Patent

    Abstrakti

    A method and apparatus, the method including: forming a recess in a graphene layer wherein the recess creates a boundary between a first portion of the graphene layer and a second portion of the graphene layer; depositing electrically insulating material within the recess; and depositing an electrically conductive material over the insulating material.

    AlkuperäiskieliEnglanti
    PatenttinumeroUS8865268B2
    IPCC23C 14/04; H01L 29/16; H01B 1/04
    Prioriteetti päiväys28/04/2009
    TilaJulkaistu - 21 lokak. 2014
    OKM-julkaisutyyppiH1 Myönnetty patentti

    Sormenjälki

    Sukella tutkimusaiheisiin 'Method and apparatus'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

    Siteeraa tätä