Mechanism of Thermal Atomic Layer Etch of W Metal Using Sequential Oxidation and Chlorination: A First-Principles Study

Suresh Kondati Natarajan, Michael Nolan, Patrick Theofanis, Charles Mokhtarzadeh, Scott B. Clendenning

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

6 Sitaatiot (Scopus)
158 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Mechanism of Thermal Atomic Layer Etch of W Metal Using Sequential Oxidation and Chlorination: A First-Principles Study'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Chemistry

Physics

Material Science

Chemical Engineering

Computer Science