Magnesium aluminate thin films by atomic layer deposition from organometallic precursors and water

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut103-107
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta466
TilaJulkaistu - 2004
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • atomic layer deposition, magnesium aluminate, thin film

ID: 2406396